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    授業内容詳細

 知的財産法Ⅱ
   Intellectual Property Law Ⅱ
授業科目区分
法学部専門教育科目・民事法系
担当者 﨑山 博教(講師)
グレード G3
テーマ 知的財産法に関する基本的な考え方を身につけることをテーマとします。
キーワード 知的財産法,特許,実用新案,意匠,商標,不正競争,著作権
開講年度
2017
開講時期
配当年次
3・4
単位数
2
コース 3年生 (法)現代社会キャリアコース基本科目(2015年度以降入学生),(経)ITキャリアコース基本科目(2008年度~2011年度入学生),(法)ビジネスローコース基本科目(2012~2014年度入学生)
4年生 (法)現代社会キャリアコース基本科目(2015年度以降入学生),(経)ITキャリアコース基本科目(2008年度~2011年度入学生),(法)ビジネスローコース基本科目(2012~2014年度入学生)

授業の目的及び概要 知的財産法のうち、特に意匠、商標、著作権法を中心に解説します。
履修条件 特にありません。
科目の位置づけ(DP・CPとの関連) この科目は、学位授与の方針(DP)に定める、学生が本学における学修と経験を通じて身につける知識や能力のうち、以下に該当します。
1.自由、平等、民主主義などの価値原理を基礎とする、法と政治に関する基本的専門知識を体系的に理解している。
学修の到達目標 知的財産法のうち、意匠、商標、著作権法を中心として、どのような制度であるか概ね説明できる。
授業の方法 必要に応じて追加資料を提示・解説し、知的財産権に関する知識を実務面から補足します。
授業外の学修(予習・復習等) 毎回配布するレジュメを見直すこと。
テキスト・参考書 毎回レジュメを配布します。
成績評価の基準・方法 出席状況、期末試験、授業への参加度を基準とし、成績割合は概ね以下の通りとします。
出席状況:20%
期末試験:50%
授業への参加度:30%
履修上の注意事項など 特にありません。
この科目の履修にあたって 知的財産法は、これからの産業発展に伴い必須の法律です。
概要を知っておくだけでも価値がありますので、是非一度学んでみて下さい。
オフィスアワー


第1回 意匠法概論

意匠法につき、他法との相違点を考慮しつつ概説します。

第2回 意匠法各論1

意匠法につき、特色的な制度を中心に解説します。

第3回 意匠法各論2

意匠法につき、権利化前の内容を中心に解説します。

第4回 意匠法各論3

意匠法につき、権利化後の内容を中心に解説します。

第5回 商標法概論

商標法につき、他法との相違点を考慮しつつ概説します。

第6回 商標法各論1

商標法につき、権利化前の内容を中心に解説します。

第7回 商標法各論2

商標法につき、権利化前の内容を中心に解説します。

第8回 商標法各論3

商標法につき、権利化前の内容を中心に解説します。

第9回 商標法各論4

商標法につき、権利化後の内容を中心に解説します。

第10回 商標法各論5

商標法につき、権利化後の内容を中心に解説します。

第11回 商標法各論6

商標法につき、権利化後の内容を中心に解説します。

第12回 条約

知的財産法に関する条約について概説します。

第13回 不正競争防止法

不正競争防止法について概説します。

第14回 著作権法1

著作権法について概略を説明します。

第15回 著作権法2

著作権法について具体論を説明します。